Actualités :

Grâce à un faisceau focalisé de gallium (FIB) in situ implémenté dans le spectromètre ToF-SIMS du CEA-Leti, sur la PFNC, il devient possible de caractériser des matériaux sensibles à l’air ou très hétérogènes. Des travaux ont été menés sur des électrodes pour batteries lithium-ion. En protégeant le lithium du risque d’oxydation, cette approche a permis […] >>

Spintec développe une mémoire STT-MRAM dix fois plus rapide que les produits annoncés pour 2016 chez Samsung ou Intel. Sa vitesse d’écriture est inférieure à la nanoseconde, contre 5 à 10 nanosecondes habituellement. La différence tient au processus de déclenchement du pulse d’écriture. Spintec l’accélère grâce à deux polariseurs d’aimantation orthogonale, placés de part et […] >>

Le CEA-Leti pilote depuis cet été Inspire, un programme d’évaluation industrielle de la lithographie par nano-impression. Une douzaine d’industriels dont Toshiba, Arkema et STMicroelectronics participaient à la journée de lancement. La firme autrichienne EVG va fournir mi-2016 l’un de ses équipements les plus récents et accueille déjà des campagnes de démonstration. La lithographie par nano-impression […] >>

Grâce aux 150 000 euros alloués par l’ERC BioactiveCoating, l’équipe de Catherine Picart au LMGP espère optimiser d’ici 18 mois la fabrication automatisée de films élaborés « couche par couche ». Ces films, constitués de polyélectrolytes, piègent des protéines qui induisent la croissance osseuse lors de thérapies de reconstruction. Ils peuvent compter de 2 à […] >>

En fabriquant cet été des micro-accéléromètres en technologie M&NEMS sur plaques 300 mm, le CEA-Leti a signé une première mondiale et adressé trois messages importants au monde industriel et académique. Il montre d’abord qu’il est possible de fabriquer des MEMS (microsystèmes électromécaniques) au format 300 mm, le plus grand utilisé en microélectronique. Les MEMS accèdent […] >>