Actualités : MINATEC

Avec la thèse soutenue en octobre par l’un de ses doctorants, le CEA-Leti a repoussé l’état de l’art des liens photoniques sur puce. Ces liens pourraient atteindre ces prochaines années 10 voire 15 Gbps, pour une consommation inférieure à 1 picojoule par bit. Ces travaux ont donné lieu depuis deux ans à 3 brevets et […] >>

Grâce à un faisceau focalisé de gallium (FIB) in situ implémenté dans le spectromètre ToF-SIMS du CEA-Leti, sur la PFNC, il devient possible de caractériser des matériaux sensibles à l’air ou très hétérogènes. Des travaux ont été menés sur des électrodes pour batteries lithium-ion. En protégeant le lithium du risque d’oxydation, cette approche a permis […] >>

Le CEA-Leti pilote depuis cet été Inspire, un programme d’évaluation industrielle de la lithographie par nano-impression. Une douzaine d’industriels dont Toshiba, Arkema et STMicroelectronics participaient à la journée de lancement. La firme autrichienne EVG va fournir mi-2016 l’un de ses équipements les plus récents et accueille déjà des campagnes de démonstration. La lithographie par nano-impression […] >>

En fabriquant cet été des micro-accéléromètres en technologie M&NEMS sur plaques 300 mm, le CEA-Leti a signé une première mondiale et adressé trois messages importants au monde industriel et académique. Il montre d’abord qu’il est possible de fabriquer des MEMS (microsystèmes électromécaniques) au format 300 mm, le plus grand utilisé en microélectronique. Les MEMS accèdent […] >>

Le dépôt de couches minces atomiques ou Atomic Layer Deposition (ALD) sera au centre de RAFALD, un workshop de 3 jours organisé mi-novembre par des spécialistes grenoblois du sujet. Au programme : matériaux, équipements, procédés, simulation, le tout à l’attention des industriels, académiques et élèves-ingénieurs en fin de cursus. 50 à 100 participants sont attendus. […] >>