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08 décembre 2015
Les super réseaux cristallins, des super isolants thermiques
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On considère habituellement qu’un cristal atteint sa conductivité thermique la plus basse sous sa forme amorphe. Une équipe INAC – LiPhy* vient de montrer par simulation numérique que cette conductivité pouvait encore être divisée par 2 voire par 3. Ceci en organisant ce cristal en « super-réseau », autrement dit en empilement ordonné de multicouches […] >>
08 décembre 2015
Cap sur des liens photoniques sur silicium à 10 Gbps et plus
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Avec la thèse soutenue en octobre par l’un de ses doctorants, le CEA-Leti a repoussé l’état de l’art des liens photoniques sur puce. Ces liens pourraient atteindre ces prochaines années 10 voire 15 Gbps, pour une consommation inférieure à 1 picojoule par bit. Ces travaux ont donné lieu depuis deux ans à 3 brevets et […] >>
08 décembre 2015
Grâce au faisceau de gallium, le ToF-SIMS préserve les matériaux
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Grâce à un faisceau focalisé de gallium (FIB) in situ implémenté dans le spectromètre ToF-SIMS du CEA-Leti, sur la PFNC, il devient possible de caractériser des matériaux sensibles à l’air ou très hétérogènes. Des travaux ont été menés sur des électrodes pour batteries lithium-ion. En protégeant le lithium du risque d’oxydation, cette approche a permis […] >>
08 décembre 2015
Une mémoire STT MRAM sub-nanoseconde made in Spintec
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Spintec développe une mémoire STT-MRAM dix fois plus rapide que les produits annoncés pour 2016 chez Samsung ou Intel. Sa vitesse d’écriture est inférieure à la nanoseconde, contre 5 à 10 nanosecondes habituellement. La différence tient au processus de déclenchement du pulse d’écriture. Spintec l’accélère grâce à deux polariseurs d’aimantation orthogonale, placés de part et […] >>
08 décembre 2015
Litho par nano-impression : Grenoble engage l’évaluation industrielle
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Le CEA-Leti pilote depuis cet été Inspire, un programme d’évaluation industrielle de la lithographie par nano-impression. Une douzaine d’industriels dont Toshiba, Arkema et STMicroelectronics participaient à la journée de lancement. La firme autrichienne EVG va fournir mi-2016 l’un de ses équipements les plus récents et accueille déjà des campagnes de démonstration. La lithographie par nano-impression […] >>