Actualités : Electronique et microélectronique - Optoélectronique
04 novembre 2021
Capteurs en silicium-sur-isolant basés sur une lecture de potentiel hors-équilibre pour applications « en solution »
Capteurs en silicium-sur-isolant basés sur une lecture de potentiel hors-équilibre pour applications « en solution » Laboratory: IMEP-LAHC Internship duration and period: 4-6 months, between February 2022 to July 2022. Advisor: Irina Ionica, Irina.Ionica@grenoble-inp.fr Context/objectives: In the wide family of bio-chemical sensors, the ISFETs (Ion Sensing Field Effect Transistors) occupy a place of honor thanks […] >>
29 octobre 2021
Capteur de glucose en optique intégrée avec mesure de température in-situ
Stage de MASTER 2 /Projet de Fin d’études (5 to 6 mois) Capteur de glucose en optique intégrée avec mesure de température in-situ The detection of glucose in water solutions plays an important role in many contexts. For instance, glucose sensors routinely monitor patient conditions in the management of diabetes mellitus. Furthermore, they find […] >>
28 octobre 2021
Technologie avancée de plasma pulsé pour la structuration de Fins de Si à fort facteur de forme
Contexte : Aujourd’hui, les dernières générations de microprocesseurs sont basées sur des architectures tridimensionnelles FinFET avec des longueurs de canal (Fin) de l’ordre de 13-15 nm. Cette architecture est envisagée jusqu’au noeud technologique 3nm prévu en 2023. Audelà, une transition vers des architectures plus complexes du type «Nanosheet» avec des dimensions encore plus agressives sera […] >>
28 octobre 2021
Développement de procédés de gravure plasma pour la fabrication de Nano-sources UV
Contexte : Les diodes électroluminescentes (LED) UV remplacent progressivement les lampes à mercure traditionnelles grâce à leur très faible consommation, leur longue durée de vie et leur grande compacité. Aujourd’hui, ces LED UV sont réalisées à partir de semi-conducteurs nitrures III-N (GaN, AlN et InN) crûs par épitaxie en couche minces pour réaliser des puits […] >>
28 octobre 2021
Diagnostic d’un nouveau type de plasma pulsé pour la fabrication de dispositifs avancés
Contexte : La fabrication des nanostructures qui prennent place (entre autres) dans les circuits intégrés repose sur l’enchainement d’étapes technologiques de dépôt du matériaux, de lithographie pour former un masque représentant le motif à créer et enfin de gravure par plasma du matériau a travers le masque. Avec les dimensions actuelles de l’ordre de 5 […] >>