Litho par nano-impression : Grenoble engage l’évaluation industrielle

Le CEA-Leti pilote depuis cet été Inspire, un programme d’évaluation industrielle de la lithographie par nano-impression. Une douzaine d’industriels dont Toshiba, Arkema et STMicroelectronics participaient à la journée de lancement. La firme autrichienne EVG va fournir mi-2016 l’un de ses équipements les plus récents et accueille déjà des campagnes de démonstration.
La lithographie par nano-impression permet de répliquer des nanostructures intégrables à des circuits électroniques, dans des dispositifs pour la biologie, la photonique ou l’éclairage. Moins onéreuse que les procédés optique et électronique, elle doit toutefois optimiser ses designs, ses matériaux et ses conditions opératoires. Avec Inspire, le Leti compte accélérer l’industrialisation à grande échelle de cette technologie innovante.

Contact : hubert.teyssedre@cea.fr

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