Au LMGP, le dépôt par couches atomiques passe la vitesse supérieure

Le LMGP a présenté fin septembre à MINATEC son nouveau réacteur SALD (Spatial Atomic Layer Deposition), le premier en France. Il fonctionne à la pression atmosphérique, d’où un coût réduit, et peut réaliser du dépôt par couches atomiques jusqu’à 100 fois plus vite qu’avec un réacteur ALD classique.

Les couches sont fines – quelques nanomètres à plusieurs centaines de nanomètres – et très homogènes. Des caractéristiques qui rapprochent cet équipement de laboratoire des exigences industrielles.

Ce nouveau réacteur est par exemple très indiqué pour l’encapsulation de dispositifs et l’ingénierie d’interfaces : protection contre la corrosion, matériaux barrière étanches… Dans le cadre du projet Carnot Energies du futur, il est utilisé avec l’INES pour du dépôt d’électrodes sur des cellules solaires.

Contact : david.munoz-rojas@grenoble-inp.fr

Facebook

Twitter