MoSe2 : des couches continues sur grandes surfaces, c’est possible

Doté de bonnes propriétés optiques mais rétif aux procédés de dépôt, le séléniure de molybdène (MoSe2) échappait jusqu’ici aux chercheurs en microélectronique. Ces derniers vont reprendre espoir avec les récents travaux de trois laboratoires de physique de l’Irig. Ils ont réalisé une couche continue et uniforme de MoSe₂ grâce à l’épitaxie par jets moléculaires sur un substrat de graphène. Les grains sont de bonne qualité cristalline et s’orientent comme ceux du graphène. Le matériau peut absorber jusqu’à 15% du spectre lumineux.

Ce résultat a été obtenu sur une surface d’1 cm² : on est loin des wafers 300 mm. Mais le procédé peut être déployé à plus grande échelle et offre des perspectives bien supérieures à l’exfoliation et au report de MoSe₂ pratiqués aujourd’hui. Ces travaux ont été publiés dans la revue ACS Nano.

Contact : matthieu.jamet@cea.fr

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