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Objectif : graver des couches sub-nanométriques
Catégorie(s) : Actualités, Industrie, Recherche
Publié le : 7 janvier 2010
En partenariat avec Applied Materials, le LTM et le Léti développent une nouvelle technologie de gravure qui permettra d’opérer couche atomique par couche atomique, tout en continuant à utiliser les réacteurs plasma actuels. Ces réacteurs seront simplement modifiés pour pulser à quelques kHz leurs générateurs radio fréquence (13,56 MHz). L’énergie des ions sera ainsi considérablement réduite et la gravure s’opérera davantage sous l’effet chimique du plasma que sous l’effet physique des ions.
Une chambre de gravure industrielle d’Applied Materials a été modifiée afin de pouvoir analyser le plasma et les phénomènes en surface du matériau gravé. Les partenaires, qui ont signé un Joint Development Program (JDP), espèrent aboutir en deux à trois ans.
Contact : maxime.darnon@cea.fr
