Oxydation ultrarapide au LTM

Le LTM est équipé depuis la mi-août d’un four de Rapid Thermal Processing (RTP) qui monte à des températures de 1 200 °C avec une rampe supérieure à 100 °C par seconde. Il s’agit notamment pour le laboratoire de réaliser autour d’un nanofil de silicium un oxyde de grille ultra-mince (quelques nanomètres) aux caractéristiques parfaitement maîtrisées. Plus la rampe de température du four est rapide, plus les processus d’oxydation et de siliciuration de contact qui conditionnent le résultat sont faciles à contrôler à petite échelle.
 
Avec son principe de chauffage par lampes, le RTP apporte une rapidité que n’offrent pas les fours à chauffage résistif utilisés habituellement. Le LTM pourra le mettre à disposition d’équipes extérieures pour d’autres activités.

Contact : bassem.salem@cea.fr

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