Photolithographie : le logiciel d’Aselta progresse toujours

Catégorie(s) : Actualités, MINATEC, Recherche

Publié le : 2 février 2016

Le logiciel Inscale de la start-up Aselta a été validé afin de devenir d’ici la mi-2016 l’outil de référence pour toute la préparation des données (« fracturation ») des masques de photolithographie du CEA-Leti. Inscale, optimisé dans le cadre du laboratoire commun avec le Leti, obtient en effet des résultats similaires à ceux de l’outil de référence du marché.
La feuille de route prévoit maintenant de le doter de fonctionnalités inédites, qui répondent aux nouveaux besoins du CEA-Leti pour la fabrication de masques. Sont ainsi prévus des développements spécifiques à la photonique, des cartographies de densité pour anticiper les contraintes technologiques des procédés, la vérification de nouvelles règles de dessin… Le laboratoire commun, créé en 2012 et renouvelé en 2015, a du pain sur la planche !
 

Contact : stephanie.huet@cea.fr

En naviguant sur notre site, vous acceptez que des cookies soient utilisés pour vous proposer des contenus et services adaptés à vos centres d’intérêts. En savoir plus
X