Actualités : Optronique

28 octobre 2021

Diagnostic d’un nouveau type de plasma pulsé pour la fabrication de dispositifs avancés

Contexte : La fabrication des nanostructures qui prennent place (entre autres) dans les circuits intégrés repose sur l’enchainement d’étapes technologiques de dépôt du matériaux, de lithographie pour former un masque représentant le motif à créer et enfin de gravure par plasma du matériau a travers le masque. Avec les dimensions actuelles de l’ordre de 5 […] >>
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