Un nouveau four CVD au CIME Nanotech

Le CIME Nanotech est équipé depuis le début avril
d’un four CVD basse pression de marque Tempress,
acquis en commun avec la Plateforme Technologique
Amont. Cet équipement sera pleinement opérationnel
en septembre. Il est doté de trois tubes dont deux
ont déjà une affectation définie : dépôt de silicium polycristallin
dopé in situ pour l’un, dépôt de nitrure de silicium
stoechiométrique et faible contrainte pour l’autre,
sur substrat de silicium de diamètre jusqu’à 100 mm
(4 pouces).
Cet équipement fonctionne à des pressions de quelques
centaines de millibars et à des températures entre 600 et
900 °C. Installé dans le BCAi, il sera également mis à la disposition
d’autres laboratoires académiques mais restera
opéré par du personnel dédié. Le montant de l’investissement
dépasse les 300 000 euros.

Contact : delphine.constantin@minatec.grenoble-inp.fr

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