Un nouvel équipement de lithographie au CIME Nanotech

Le CIME Nanotech s’est équipé récemment d’un nouvel équipement de lithographie qui intègre deux procédés innovants. Le premier est un procédé de nano-impression, avec contrôle de l’étape de pressage/séparation par une matrice d’actionneurs, qui réduit les défauts induits lorsque cette étape est réalisée manuellement.
Le second procédé permet de réaliser une lithographie sans résine, grâce à un plasma localisé entre le masque et le substrat. Il est adapté aux substrats qui ne tolèrent pas les résines photosensibles ou l’exposition aux rayonnements UV.
L’IRT Nanoélectronique a cofinancé cet équipement, déjà utilisé par des équipes du LTM et du Leti pour plusieurs programmes de recherche et de formation : spintronique, fonctionnalisation de surfaces pour les MEMS fluidiques etc.

Contact : delphine.constantin@grenoble-inp.fr

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